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长椭圆形氧化沟活性污泥法
型号:TKPS-176
编号 | 技术指标名称 | 技术指标响应值 |
1 | 工作条件 | 1、工作环境:环境温度0℃~+40℃ 相对湿度<85%(25℃) 2、输入电压:单相交流220V±10% 50Hz 3、装置容量:<2kVA |
2 | 实验目的 |
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3 | 实验原理 | 氧化沟活性污泥法又称循环曝气池,是活性污泥法的一种变法。 1、在构造方面:氧化沟一般呈环形沟渠状,平面多为椭圆形或圆形; 2、在水流混合方面:在流态上,氧化沟介于*混合与推流之间; 3、在工艺方面:可考虑不设初沉池,有机性悬浮物在氧化沟内能够达到好氧稳定的程度。可考虑不单设二次沉淀池,但氧化沟与二次沉淀池合建,可省去污泥回流装置。 |
4 | 设备特点 |
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5 | 技术指标 |
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6 | 产品规格与附件 |
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